一、PET载体薄膜电阻的断裂原理分析及改进方案(论文文献综述)
葛良进[1](2012)在《基于柔性衬底的微纳结构图形复制技术及其应用》文中研究说明柔性衬底微纳结构尤其是聚合物基底结构,有着良好的物理和化学性能,相比硅基材料有着更好的生物兼容性、电绝缘性和热隔离性,因此被广泛应用到光学、电子、生物和医疗等领域。如何低成本、简单工艺实现柔性衬底上微纳结构的复制是柔性衬底器件发展和应用的基础和关键。本论文以柔性衬底材料为研究对象,围绕基于表面能的粘附功加工以及基于粘弹性的动态刻划加工,结合传统和非传统的微纳加工方法,开展了转印技术、逆热键合技术、柔性逆软紫外浇铸技术以及动态纳米刻划技术的研究,仿真和应用的研究,如太阳能电池电极制作、可控纳米通道制作等工作。论文的主要研究内容包括:(1)基于粘附功的微纳加工机理研究,分析液体在固体上的润湿性,通过测量接触角和液体表面张力,可计算出固液界面粘附功和固固界面粘附功,开展转印技术及其应用研究,对流程中涉及到的casting、stamping和printing等工艺进行仿真和实验研究,优化工艺参数,并应用于Ag电极的制备。(2)利用逆热键合技术制作纳米通道,将基于粘附功差异获得的自支撑SU-8图形结构作为键合层,从而改变以往热键和技术中使用聚合物结构做基底的方法,解决了封装强度不够的难题和通道的尺寸精确控制问题。(3)提出柔性逆紫外浇铸技术制作高深宽比聚合物结构,基于粘附功差异和柔性材料使用解决了因接触面积大造成结合力大从而无法脱模的难题。使用PUA作为基底材料,利用C=C双键的转换程度表征PUA的固化率,解决高深宽比聚合物结构的倒伏现象,实现了高密度、高深宽比纳米结构图形的覆辙结构亚波长光栅的研制,成功制作出可见光波段的亚波长光栅结构,设计并实验验证了抑反射效果,并验证了亚波长结构的表面增强拉曼散射效应。(4)对动态纳米刻划(DNI)技术在柔性基底上能够大面积连续性的刻划微纳图形结构进行了理论和实验的验证,从微观角度分析DNI过程,建立了基于不同基底材料的DNI仿真分析模型,探讨了DNI加工深度对材料属性以及温度、速度和压力的依赖性,搭建了DNI实验设备,建立了速度、压力和温度控制系统,验证了参数之间的关系。成功将DNI应用到亚波长光栅结构、纳米通道结构的制作上。
李序东[2](2012)在《磁控溅射制备TiB2薄膜及薄膜特性研究》文中研究指明电厂的安全生产需要对大型高温管线进行损伤分析、寿命监测与预测维修,而高温管线的寿命在线监测关键就是依靠可长时间、高精度、稳定工作的高温应变计。目前国内应用的高温应变计如PtW丝式应变计、PdCr丝式应变计、半导体薄膜式应变传感器等,大多存在横向效应大、热输出大、寿命短、价格昂贵等缺点。因此寻找一种精度高、稳定性好、价格低廉的高温应变材料是非常有意义的。本文主要研究了在高温应变传感器中有重要应用前景的TiB2半导体薄膜的制备、表征、微观结构和电学特性。论文包括如下几个方面内容:1.采用磁控溅射方法制备出了TiB2半导体薄膜,利用SEM、EDS、XRD对薄膜进行结构和成分表征,重点考察了溅射时问对薄膜厚度的影响:采用磁控溅射方法,保持溅射功率、溅射气压不变,TiB2薄膜的厚度和溅射时间呈线性关系。2.对溅射态的TiB2薄膜样品用AFM、四探针法(FPP)等测试分析手段研究了微观结构、电学特性,同时采用悬臂梁法和自行设计的实验装置测量了半导体薄膜的电阻应变系数(GF)、电阻温度系数(TCR)。薄膜样品的表观颗粒尺寸随厚度增大而增大,方阻随厚度增大而减小,电阻率不随厚度改变。3.对溅射态的TiB2薄膜样品进行了热处理,比较了热处理前后薄膜结构、形貌、电学性能的变化。热处理后的薄膜晶化,在厚度不变的条件下,薄膜方阻随热处理温度的上升而上升,薄膜在一个温度周期内电阻迟滞减小,薄膜的电阻性能趋于稳定。
吴妲[3](2009)在《氧化铟锡薄膜制备工艺及薄膜性能研究》文中进行了进一步梳理氧化铟锡(ITO)薄膜因为具有良好的导电性,对可见光透明,对红外光反射性强等特性,被广泛用于平面液晶显示、建筑用节能视窗、太阳能电池、轿车风挡、电磁辐射防护等方面。本文以锡的无机盐和金属铟为原料,分别通过有机法和无机法制备出ITO前驱物浆料,采用浸渍提拉法在玻璃基片上涂覆薄膜并经过热处理得到ITO薄膜样品。在ITO前驱物浆料的制备过程中,通过对有机体系、水解催化剂的选择及浆料中In3+浓度的调整来提高ITO薄膜的光电性能,使用硅烷偶联剂增强无机法制备的ITO薄膜在玻璃基片上的附着性能并探讨了机理;在涂覆工艺方面,讨论了涂覆层数、浸渍提拉速度等因素对薄膜电学性能的影响;分析了热处理时间、气氛与薄膜电学性能的关系。本实验采用四探针法测量薄膜的方电阻;透射电镜表征浆料的分散性能;扫描电镜表征薄膜的微观形貌;纳米划痕法评价薄膜与基材的附着性能;分光光度计仪器测量样品的透过率;X射线衍射仪表征薄膜的晶体结构。结果表明,在乙酰丙酮(2,4-戊二酮)有机体系中,用乙酸作催化剂,在无需真空干燥的条件下可制得均一稳定的ITO前驱物浆料。随着浆料中In3+浓度从0.1mol/L增大到0.3mol/L,所得到的薄膜电阻逐渐降低。偶联剂的作用使氧化铟锡薄膜通过O-Si-O的连接附着在玻璃基片上,即蹦げ阌氩阒湟约氨∧び牖涞慕缑嬗稍醇虻サ奈锢砦奖涑闪饲苛业幕?因此附着性能得到改善。硅烷偶联剂的引入,不影响ITO薄膜的晶型结构,薄膜晶体沿(222)平面方向择优生长;薄膜在390-780nm范围内平均光透过率从78.9%提高至83.6%,透过率随着波长的增加而增大。对比采用硅烷偶联剂对基片进行处理和将偶联剂添加到ITO前驱物浆料中两种方法发现,后者的作用效果更明显,薄膜剥离基片的临界载荷从4.16mN增大到6.20mN,增幅为49%。浆料涂覆工艺中,提拉速度越大,薄膜的电阻越小,并且随着涂覆次数的增加,薄膜的电阻呈现逐渐减小的趋势。
王贵诚,冷用斌,孙葆根,陶小平,何晓业,赵枫,周耀华,刘广俊,李广映,方蕾[4](2002)在《PET载体薄膜电阻的断裂原理分析及改进方案》文中认为介绍了薄膜型ns壁流探测器中使用的薄膜电阻片受强辐照后的各项测试结果及简要分析。并提出了防止载体薄膜断裂的改进方案。
二、PET载体薄膜电阻的断裂原理分析及改进方案(论文开题报告)
(1)论文研究背景及目的
此处内容要求:
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景,再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题,并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例:
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
(2)本文研究方法
调查法:该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法:用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法:通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法:通过调查文献来获得资料,从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法:依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法:对研究对象进行“质”的方面的研究,这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法:通过具体的数字,使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法:运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法:这是社会科学用来分析社会现象的一种方法,从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法:通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、PET载体薄膜电阻的断裂原理分析及改进方案(论文提纲范文)
(1)基于柔性衬底的微纳结构图形复制技术及其应用(论文提纲范文)
摘要 |
Abstract |
目录 |
图目录 |
表目录 |
第1章 绪论 |
研究背景及意义 |
1.1 柔性器件及其应用 |
1.1.1 柔性电子学 |
1.1.2 聚合物基MEMS/NEMS |
1.2 基于柔性衬底的微纳加工技术研究现状 |
1.2.1 传统加工方法及其瓶颈 |
1.2.2 非传统加工方法 |
1.3 有待解决的问题 |
1.4 论文研究内容和组织结构 |
1.4.1 论文研究内容 |
1.4.2 论文组织结构 |
第2章 基于粘附功的微纳加工机理 |
2.1 引言 |
2.2 表面能理论 |
2.2.1 液体表面张力 |
2.2.2 固体表面能 |
2.3 基于表面能理论的粘附功 |
2.3.1 粘附功的计算 |
2.3.2 固液界面与润湿性 |
2.3.3 微纳结构的影响 |
2.4 加工过程中动力学研究 |
2.5 本章小结 |
第3章 转印技术研究及其应用 |
3.1 引言 |
3.2 转移印刷技术机理研究 |
3.2.1 转印的几种常见方式 |
3.2.2 Ink coating浇铸 |
3.2.3 Stamping压膜 |
3.3 转印技术应用 |
3.3.1 实验 |
3.3.2 结果与讨论 |
3.4 本章小结 |
第4章 逆热键合技术—纳米通道制作 |
4.1 引言 |
4.2 常规热键合技术及其存在的问题 |
4.3 热剥离胶带 |
4.4 RTB工艺流程与实验 |
4.5 实验结果与讨论 |
4.5.1 SU-8纳米通道 |
4.5.2 可控尺寸纳米通道的实现 |
4.6 本章小结 |
第5章 柔性逆紫外浇铸技术 |
5.1 引言 |
5.2 PUA的特性和应用介绍 |
5.3 柔性逆紫外浇铸工艺(flexible reversal UV casting) |
5.3.1 工艺流程与机理 |
5.3.2 PUA紫外固化工艺优化 |
5.4 可见光波段高深宽比亚波长增透光栅制作 |
5.4.1 光栅的设计 |
5.4.2 实验 |
5.4.3 结果与讨论 |
5.5 表面增强拉曼效应应用 |
5.6 本章小结 |
第6章 DNI(动态纳米刻划)技术的微观分析及应用 |
6.1 引言 |
6.2 DNI技术的机理研究 |
6.3 实验与设备 |
6.4 结果与讨论 |
6.4.1 材料的选择 |
6.4.2 SU-8的DNI |
6.4.3 PC上的DNI |
6.4.4 局部加热DNI(Localized Heating assisted DNI,LH-DNI) |
6.5 应用的拓展 |
6.5.1 亚波长光栅 |
6.5.2 纳米通道 |
6.5.3 其他 |
6.6 本章小结 |
第7章 总结与展望 |
7.1 全文总结 |
7.1.1 论文的主要研究成果 |
7.1.2 论文的主要创新点 |
7.2 研究展望 |
参考文献 |
在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 |
致谢 |
(2)磁控溅射制备TiB2薄膜及薄膜特性研究(论文提纲范文)
摘要 |
Abstract |
目录 |
第一章 前言 |
1.1 高温管线的寿命监测技术 |
1.2 高温应变计的研究进展 |
1.3 溅射镀膜技术 |
1.3.1 直流磁控溅射 |
1.3.2 射频磁控溅射 |
1.4 TiB_2薄膜研究进展 |
1.5 本文的研究思路和章节安排 |
1.6 本章小结 |
第二章 实验设备与检测方法 |
2.1 溅射镀膜设备 |
2.1.1 JCP300磁控溅射镀膜机 |
2.1.2 靶材 |
2.1.3 TiB_2薄膜制备工艺 |
2.2 薄膜样品的检测方法 |
2.2.1 成分表征 |
2.2.2 形貌表征 |
2.2.3 结构表征 |
2.2.4 厚度表征 |
2.2.5 电阻率测量 |
2.2.6 电阻温度系数测试 |
2.2.7 电阻应变系数测量 |
2.3 本章小结 |
第三章 磁控溅射制备TiB_2薄膜 |
3.1 实验 |
3.2 薄膜的沉积速率 |
3.3 薄膜的成分 |
3.3.1 TiB_2靶材的成分 |
3.3.2 镀膜的成分和结构 |
3.4 本章小结 |
第四章 溅射态TiB_2薄膜形貌与性能研究 |
4.1 薄膜表观颗粒尺寸 |
4.2 薄膜的粗糙度 |
4.3 薄膜的电阻特性 |
4.4 薄膜的电阻温度系数 |
4.5 薄膜的电阻应变系数 |
4.6 掩膜法制备薄膜应变花的散射现象 |
4.7 本章小结 |
第五章 热处理对TiB_2薄膜形貌及性能影响 |
5.1 薄膜热处理 |
5.2 热处理对薄膜结构的影响 |
5.3 热处理对薄膜形貌的影响 |
5.4 热处理对薄膜粗糙度的影响 |
5.5 热处理对薄膜TCR的影响 |
5.6 热处理对薄膜方阻的影响 |
5.7 本章小结 |
第六章 结论、创新点及展望 |
6.1 结论 |
6.2 创新点 |
6.3 展望 |
参考文献 |
致谢 |
攻读硕士期间科研成果 |
(3)氧化铟锡薄膜制备工艺及薄膜性能研究(论文提纲范文)
摘要 |
ABSTRACT |
第一章 绪论 |
1.1 透明导电薄膜研究概述 |
1.1.1 ITO透明导电薄膜的结构 |
1.1.2 ITO薄膜的光学性能与机理 |
1.1.3 ITO薄膜的电学性能与导电机理 |
1.2 ITO透明导电薄膜的制备方法 |
1.2.1 物理气相沉积法 |
1.2.2 化学气相沉积法 |
1.2.3 水热法 |
1.2.4 溶胶-凝胶法 |
1.3 ITO薄膜在平板液晶显示器中的应用 |
1.3.1 液晶显示的发展历程 |
1.3.2 ITO透明导电薄膜在TFT-LCD手机显示屏中的应用 |
1.3.3 ITO透明导电薄膜在OLED中的应用 |
1.4 存在的问题和发展趋势 |
1.5 论文选题的立论、目的和意义 |
1.6 本课题的主要研究内容 |
第二章 实验方案及测试方法 |
2.1 实验方案 |
2.2 实验原料 |
2.3 实验仪器 |
2.4 测试表征方法 |
2.4.1 四探针法测量薄膜的方电阻 |
2.4.2 透射电镜表征浆料的分散性能 |
2.4.3 扫描电镜表征薄膜的微观形貌 |
2.4.4 纳米划痕法评价薄膜与基材的附着性能 |
2.4.5 分光光度计仪器测量样品的透过率 |
2.4.6 X射线衍射仪表征薄膜的晶体结构 |
第三章 实验结果分析 |
3.1 有机法制备ITO前驱物浆料 |
3.1.1 有机体系的选择 |
3.1.2 水解催化剂的选择 |
3.1.3 关于浆料浓度的讨论 |
3.2 无机法制备ITO前驱物浆料 |
3.2.1 无机法制备ITO前驱物浆料 |
3.2.2 提高薄膜附着力的方法 |
3.2.3 偶联剂对薄膜附着力性能的影响 |
3.2.4 偶联剂对ITO薄膜结构的影响 |
3.2.5 偶联剂对ITO薄膜导电性能的影响 |
3.2.6 偶联剂对ITO薄膜导透光性能的影响 |
3.3 涂覆工艺 |
3.4 热处理 |
第四章 结论 |
参考文献 |
致谢 |
研究成果及发表的学术论文 |
作者和导师简介 |
作者简介 |
导师简介 |
北京化工大学硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 |
(4)PET载体薄膜电阻的断裂原理分析及改进方案(论文提纲范文)
1 200MeV电子直线加速器上壁流探测器的分布 |
2 薄膜电阻片的基本结构 |
3 辐照后薄膜电阻片参数变化及原理分析 |
3.1 阻值测定 |
3.2 电阻带微观结构观察 |
3.3 晶体X射线衍射实验 |
3.4 电子顺磁共振法实验 |
4 结论 |
5 改进方案 |
四、PET载体薄膜电阻的断裂原理分析及改进方案(论文参考文献)
- [1]基于柔性衬底的微纳结构图形复制技术及其应用[D]. 葛良进. 中国科学技术大学, 2012(01)
- [2]磁控溅射制备TiB2薄膜及薄膜特性研究[D]. 李序东. 华东理工大学, 2012(08)
- [3]氧化铟锡薄膜制备工艺及薄膜性能研究[D]. 吴妲. 北京化工大学, 2009(07)
- [4]PET载体薄膜电阻的断裂原理分析及改进方案[J]. 王贵诚,冷用斌,孙葆根,陶小平,何晓业,赵枫,周耀华,刘广俊,李广映,方蕾. 核技术, 2002(01)